三星的目标是年内在韩国国内采购EUV空白掩模版。 掩膜版是半导体光刻工艺中的关键部件，它是一种高精度的石英或玻璃板，上面刻有用于制造集成电路（IC）的微型图案。通过光刻工艺，掩膜版上的图案被转移到硅晶圆上，从而形成半导体器件的微观结构。

现金流向好的同时，洪田股份加大了新产品研发创新投入。期内，公司研发费用发生金额约为4000万元，上年同期为1820.02万元，同比增长约为123%。对研发的重视也体现在其产品获得的重大突破上。根据公司控股子公司洪瑞微电子官微6月23日消息，洪田股份间接参股子公司洪镭光学凭借先进的产品技术解决方案与专业高效的团队，赢得半导体掩模版资深制造厂商青睐，获得高解析直写光刻机采购订单。

公告显示，报告期内，公司加大了新产品研发创新投入，研发费用发生金额约为4,000万元，上年同期为1,820.02万元，同比增长约123%。本期计提信用减值损失约1,600万元，致使利润减少约1,600万元。

8月6日，龙图光罩（688721.SH）在上交所科创板成功上市，作为国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商，龙图光罩引得市场关注，其开盘涨幅一度 ...

掩模版厂商主要分为两大类：一类是晶圆厂自行配套的（in-house）工厂，另一类是独立的第三方掩模版生产商。鉴于掩模版涉及晶圆制造的核心机密且制造难度颇高，先进制程的掩模版大多由晶圆厂内部的专业工厂生产。

掩模版厂商主要分为两大类：一类是晶圆厂自行配套的（in-house）工厂，另一类是独立的第三方掩模版生产商。鉴于掩模版涉及晶圆制造的核心机密且制造难度颇高，先进制程的掩模版大多由晶圆厂内部的专业工厂生产。

龙图光罩专注于半导体掩模版的研发与生产，产品涵盖石英掩模版和苏打掩模版两类，覆盖130nm及以上制程节点，广泛应用于功率半导体、mems传感器 ...

如果S&S Tech的空白掩模版获得批准，这将是韩国公司第二次成功实现EUV所用材料的商业化生产。第一家是成功生产EUV所用光刻胶（PR）的东进世美肯（Dongjin Semichem）。

亚化咨询认为，中国企业在成熟制程的崛起，必将驱动国内光罩（光掩模版）的需求。中国市场将为全球光罩产业注入新活力，助推半导体制造迈向 ...

雷柏v500pro多模版无线游戏机械键盘采用104键设计，附带独立数字键盘。 爆柠青桔外观版本采用了深绿色和灰白色双拼色设计，给人一直清新脱俗的 ...