现金流向好的同时，洪田股份加大了新产品研发创新投入。期内，公司研发费用发生金额约为4000万元，上年同期为1820.02万元，同比增长约为123%。对研发的重视也体现在其产品获得的重大突破上。根据公司控股子公司洪瑞微电子官微6月23日消息，洪田股份间接参股子公司洪镭光学凭借先进的产品技术解决方案与专业高效的团队，赢得半导体掩模版资深制造厂商青睐，获得高解析直写光刻机采购订单。

7月14日晚间，洪田股份（603800.SH）发布业绩预告，受外部环境和下游市场去库存周期影响，公司收入确认减少，同时，由于研发费用大幅增长以及计提信用减值等因素，预计公司上半年净利润为负。不过，得益于持续加码研发，公司高端核心产品不断刷新行业纪录，彰显了公司在高端铜箔装备领域的领先水平。此外，公司上半年加大客户应收账款的回款力度，期内经营活动现金流量净额约为11,271.96万元，上年同期为-5 ...

三星的目标是年内在韩国国内采购EUV空白掩模版。 掩膜版是半导体光刻工艺中的关键部件，它是一种高精度的石英或玻璃板，上面刻有用于制造集成电路（IC）的微型图案。通过光刻工艺，掩膜版上的图案被转移到硅晶圆上，从而形成半导体器件的微观结构。

根据龙图光罩的发展历史，半导体掩模版工艺节点从1μm逐步提升至130nm，产品应用领域从分立器件、LED、IC 封装、光学器件等，逐步扩大至制程水平 ...

掩模版厂商主要分为两大类：一类是晶圆厂自行配套的（in-house）工厂，另一类是独立的第三方掩模版生产商。鉴于掩模版涉及晶圆制造的核心机密且制造难度颇高，先进制程的掩模版大多由晶圆厂内部的专业工厂生产。

8月6日，龙图光罩（688721.SH）在上交所科创板成功上市，作为国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商，龙图光罩引得市场关注，其开盘涨幅一度 ...

掩模版厂商主要分为两大类：一类是晶圆厂自行配套的（in-house）工厂，另一类是独立的第三方掩模版生产商。鉴于掩模版涉及晶圆制造的核心机密且制造难度颇高，先进制程的掩模版大多由晶圆厂内部的专业工厂生产。

如果S&S Tech的空白掩模版获得批准，这将是韩国公司第二次成功实现EUV所用材料的商业化生产。第一家是成功生产EUV所用光刻胶（PR）的东进世美肯（Dongjin Semichem）。

龙图光罩专注于半导体掩模版的研发与生产，产品涵盖石英掩模版和苏打掩模版两类，覆盖130nm及以上制程节点，广泛应用于功率半导体、mems传感器 ...

亚化咨询认为，中国企业在成熟制程的崛起，必将驱动国内光罩（光掩模版）的需求。中国市场将为全球光罩产业注入新活力，助推半导体制造迈向 ...

日前，在上海举办的2025第九届集微半导体大会上，4款产品在设备、材料领域实现技术突破并获得表彰，包括安集微电子科技股份有限公司高端半导体材料、睿晶半导体有限公司光掩模版等。半导体产业重大重组案例数创2020年以来新高作为优化产业链布局的重要手段之一，并购重组为半导体市场的发展注入强大动力。按照首次披露日期计算，2020年至2025年，半导体产业并购重组案例接近270起，其中，2024年多达60余 ...